如何用卡片機(jī)的CCD替換金相顯微鏡攝像機(jī)的CCD?顯微鏡型號(hào)4XCE倒置式顯微鏡。因?yàn)轱@微的攝像機(jī)配的CCD分辨率不夠高,想找一個(gè)破的照相機(jī)的CCD替換一下。但是不知道CCD長(zhǎng)什么樣子,不知道怎么換。
金屬在快速冷卻后形成球狀顆粒(200納米左右),? 結(jié)晶過(guò)程是在液體里面進(jìn)行降溫速度大概是1000000K/S,有什么好的理論解釋沒(méi)有?不知結(jié)晶過(guò)程主要受什么參數(shù)影響?
我做的馬氏體時(shí)效鋼在時(shí)效之后有逆轉(zhuǎn)變奧氏體出現(xiàn)。但是做金相樣的時(shí)候我嘗試用各種濃度的硝酸酒精腐蝕后奧氏體都不翼而飛了,留下長(zhǎng)條狀的洞。這種情況也發(fā)生在TEM樣品雙噴的時(shí)候,用的是5%的高氯酸,-40度雙噴的,奧氏體還是沒(méi)保住。該如何解決這個(gè)問(wèn)題?
大家測(cè)金相和SEM的時(shí)候鑲嵌樣品都用什么材料,我覺(jué)得SEM效果好,必須得用導(dǎo)電型的鑲嵌料,請(qǐng)問(wèn)大家都有那些導(dǎo)電型的鑲嵌料?。?/p>
鋼材表面已經(jīng)有一層涂層,現(xiàn)需在該涂層的基礎(chǔ)上進(jìn)行熱浸鍍鋁,在這種情況下,除油、除銹這些清潔步驟是不是要再做一遍?
鎂合金文獻(xiàn)中的AL11RE3和AL4RE是不是同一物質(zhì)?對(duì)Zui近看Mg-AL-RE文獻(xiàn)中Al-RE相金屬化合物有不解,其中有說(shuō)是AL11RE3,也有報(bào)道是Al4RE,有幾個(gè)問(wèn)題需解惑
想測(cè)試式樣中一種物相是什么,但是直接做XRD由于數(shù)量少,而是衍射峰很小,現(xiàn)在想先用球磨磨碎了,然后用試劑把他們腐蝕出來(lái),再做XRD。想請(qǐng)教大家腐蝕出來(lái)的肯定是粒度很小的顆粒,那么多大的粒度的做XRD更合適,還有就是這種粉末XRD能用來(lái)確定物相么???還有就是這種粉末XRD能用來(lái)確定物相么???
對(duì)經(jīng)過(guò)850C退火后的低合金鋼進(jìn)行快冷處理。冷卻后組織的的衍射光斑有的呈正三角形,有的呈平行四邊形。是不是呈正三角形的是殘余奧氏體的衍射光斑呢?
Zui近要做T91鋼的EBSD,經(jīng)過(guò)機(jī)械拋光之后,需要電解拋光,哪位哥們或者姐們做過(guò)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)???能告訴一下電解拋光液及相關(guān)的電解參數(shù)嗎?
做了N個(gè)錳酸鋰的XRD 發(fā)現(xiàn)每個(gè)圖譜都是向右偏怎么回事? 求解釋這樣還是不是尖晶石的錳酸鋰了呢?
今天去學(xué)習(xí)SEM,拿的鑄鋼試樣,因?yàn)榈谝淮谓佑|,能幫忙分析圖上的晶粒組成嗎?因?yàn)橹皇侨W(xué)習(xí),沒(méi)打磨表面,也沒(méi)腐蝕。 因?yàn)槲揖褪茄芯窟@個(gè)材料的,所以很想知道晶體成分和缺陷。
因?yàn)樵趯?shí)驗(yàn)過(guò)程中需要有一個(gè)嵌入成型,工序完成后進(jìn)行脫除的工藝,現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)這一點(diǎn)不是那么容易實(shí)現(xiàn)。目前想尋找一種低熔點(diǎn)、高強(qiáng)度的材料??辜羟袕?qiáng)度Zui好能在100Mpa以上,熔點(diǎn)在350攝氏度以下。不一定要金屬基材料,可以使高分子材料或其他復(fù)合材料。