完善的LIBRA® 200與國家Zui先進的像差校正的平臺相結(jié)合,提供強大的新的原子級成像和分析能力。
極大地提高了分辨率和化學(xué)敏感性現(xiàn)在獲得發(fā)展,如材料科學(xué),軟物質(zhì),生命科學(xué),半導(dǎo)體和納米技術(shù)等領(lǐng)域的下一代應(yīng)用。
LIBRA® 200 CS - TEM提高了點分辨率的顯微鏡,限制其信息納入物鏡成像校正:
點分辨率<80pm @ 200kv
80千伏和200千伏之間的操作
原子分辨率的80千伏
Delocalisation免費成像
LIBRA® 200 CS,照明系統(tǒng)的像差校正使干模式分埃決議:
分辨率<0.1 ??nm的200kV
探頭目前十倍以上的標準(裸眼)系統(tǒng),從而提高了信號與噪聲和顯著增強的化學(xué)敏感性
在不犧牲探頭尺寸(分辨率),與單色相結(jié)合的高級能量分辨率
這兩種儀器可配備一個dispersionfree靜電提供能量的單色
分辨率<0.15 eV和進一步改善了該儀器的信息限制。
卡爾蔡司(納米技術(shù)系統(tǒng)部)提供完整的尖端的顯微鏡和分析儀器,包括:FE -中小型企業(yè),多用途和擴展的壓力,中小型企業(yè),能源過濾TEMS,橫梁® FIB / SEM工作站,和決議記錄設(shè)置氦離子顯微鏡 - 半導(dǎo)體,材料分析和生命科學(xué)行業(yè)提供解決方案。有了這個廣泛的產(chǎn)品組合,卡爾蔡司國稅廳提供一站式解決方案成像 - 包括三維體積渲染和重建 - 測試,表征,操作,過程控制和故障分析。
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