在
光學(xué)顯微鏡下無法看清小于0.2?m的細(xì)微
構(gòu)造,這些
結(jié)構(gòu)稱為亞顯微結(jié)構(gòu)(submicroscopic structures)或超微構(gòu)造(ultramicroscopic structures;ultrastructures)。要想看清這些構(gòu)造,就必需選擇波長更短的
光源,以進(jìn)步
顯微鏡的分辯率。1932年Ruska發(fā)現(xiàn)了以電子束為
光源的透射
電子顯微鏡(transmission electron microscope,TEM),電子束的波長要比可見光和紫外光短得多,并且電子束的波長與發(fā)射電子束的電壓平方根成反比,也就是說電壓越高波長越短。目前TEM的辨別力可達(dá)0.2nm。
電子顯微鏡(圖2-12)與光學(xué)
顯微鏡的成像原理基礎(chǔ)一樣,
工業(yè)顯微鏡價格,所不同的是前者用電子束作光源,用電磁場作透鏡。另外,由于電子束的穿透力很弱,因此用于電鏡的標(biāo)本須制成厚度約50nm左右的超薄切片。這種切片須要用超薄切片機(jī)(ultramicrotome)制造。電子顯微鏡的放大倍數(shù)Zui高可達(dá)近百萬倍、由電子照明系統(tǒng)、電磁透鏡成像體系、真空體系、記載系統(tǒng)、電源體系等5部分構(gòu)成
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